반도체
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300mm Dry strip(Asher) Equipment
당사에서 개발 및 특화된 Plasma Source를 Dry strip 장비에 적용하여 Dry strip 프로세스를 보다 안정적이고 빠르게 처리합니다. 세계적인 반도체 Chip Maker 고객사에서 사용하고 있는 당사의 Dry Strip 장비는 Wafer 표면의 손상 최소화 및 높은 만족도를 제공하고 있습니다.
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300mm Non-oxidation Equipment
당사의 장비는 무산화 공정 사양을 만족하는 차세대 PR strip 장비로서 반도체 고객사로부터 품질 인증을 받은 차세대 무산화 공정 장비 입니다. 당사의 장비를 사용함으로 고객은 당사의 신뢰 할 수 있는 기술력 및 성능을 경험 할 수 있습니다.
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200mm Dry strip(Asher) Equipment
당사의 200mm Dry strip 장비는 Foundry, MEMS 시장을 겨냥하여 개발한 장비 입니다. 고객은 당사의 장비에서 높은 생산성, 최적의 장비사이즈 그리고 신뢰할 수 있는 가동율을 경험할 수 있습니다.